上海沃家真空設備科技有限公司是國內領先的真空鍍膜工程集成供應商，本公司的真空鍍膜設備應用于國內外中，高端客戶市場，如：3C電子產品、能源、汽車、建筑、納米材料、生物醫(yī)療、太陽能光伏等行業(yè)。其中：ASC系列鍍膜設備所加工的產品具有結合力強，涂層細膩，色澤高檔的特點；HMC汽車大燈專用鍍膜設備，利用最先進的PVD結合PECVD制程，提高良品率，減少生產成本；OEC光學鍍膜設備，設計先進，配置合理，可有償提供百層以上的光學薄膜工藝。

　　詳細說明：真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發(fā)現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電，為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+并產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。

　　1）膜厚可控性和重復性好。能夠可靠的鍍制預定厚度的薄膜，并且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；

　　2）薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；

　　3）制備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；